LY-2006顆粒圖像分析儀

   LY-2006型顯微圖像分析系統(tǒng)是我公司研制的種圖像法顆粒分析儀器。它是傳統(tǒng)的顯微鏡法與現(xiàn)代的圖像處理相結(jié)合的產(chǎn)物。它的基本作程是通過(guò)數(shù)字?jǐn)z象機(jī)抓拍顆粒在顯微鏡下的圖像并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，通過(guò)業(yè)的顆粒圖像分析軟件對(duì)圖像行處理與分析， 經(jīng)顯示器和打印機(jī)顯示和輸出分析結(jié)果。本儀器具有直觀、準(zhǔn)確、測(cè)試范圍寬等點(diǎn)，不僅可以直接觀察到顆粒形貌，還可以計(jì)算出每個(gè)顆粒粒徑和圓形度以及粒度分布和圓形度分布，為科研、域增添了種新的粒度測(cè)試手段。

、LY-2006顆圖像分析儀基本參數(shù)

•    測(cè)試范圍：1-3000微米；
•    顯微鏡：中外合資光學(xué)顯微鏡（可選配其他種類顯微鏡，如口顯微鏡、金相顯微鏡等）；
•    數(shù)字?jǐn)z像機(jī)：192像素；
•    zui大光學(xué)放大倍數(shù)：1600倍；
•    zui大分辨率：0.1微米/像素；
•    重復(fù)性誤差：<3%（不包含樣品制備因素成的誤差）。

二、儀器組成與圖像分析原理

• 儀器組成：
•    LY-2006型顯微圖像分析系統(tǒng)包括粒度分析軟件、數(shù)字?jǐn)z像機(jī)、顯微鏡、電腦、打印機(jī)等組成分。
• 分析原理：
•    通過(guò)對(duì)顆粒數(shù)量和每個(gè)顆粒所包含的像素量的統(tǒng)計(jì)，計(jì)算出每個(gè)顆粒的等效面積圓和等體積，從而得到顆粒的等效圓面積直徑和等體積直徑以及圓形度等參數(shù)，再對(duì)所有的顆粒行分統(tǒng)計(jì)，從而得到粒度分布、圓形度分布等信息。

三、LY-2006顆粒圖像分析儀軟件能

• 圖像處理能：
•    對(duì)圖像行灰度轉(zhuǎn)換，二值化，分割，刪除，剪切，粘貼，縮放，填充等系列處理，得到顆粒清晰的黑白二值化圖像。
• 數(shù)據(jù)處理能：
•    通過(guò)對(duì)圖像行處理，測(cè)量軟件自動(dòng)統(tǒng)計(jì)出顆粒個(gè)數(shù)，然后計(jì)算每個(gè)顆粒所包含的像素?cái)?shù)，得出顆粒的面積、等效直徑、等效周長(zhǎng)、實(shí)際周長(zhǎng)、圓形度等參數(shù)。通過(guò)粒度分，得到用戶需要的粒度分布表和分布圖以及d10、d50、d90等典型參數(shù)，并可根據(jù)需要選擇個(gè)數(shù)分布或體積分布。
• 軟件輸出項(xiàng)目：
•    包括原始數(shù)據(jù)（樣品信息和測(cè)試信息）；分析數(shù)據(jù)（粒度分布表/粒度分布圖）；圖形（頻率分布直方圖和累計(jì)分布曲線）；典型結(jié)果（中位徑，平均徑，圓形度等）。
• 報(bào)告輸出能：
•    可以打印原始圖像和多種測(cè)試報(bào)告，包括粒度報(bào)告，圖像報(bào)告，圓形度報(bào)告以及粒度和典型圖像的綜合報(bào)告。

四、LY-2006顆粒圖像分析儀適用域

•    研磨材料：白剛玉、金剛石、碳化硅、碳化硼、氧化鈰等；
•    電池材料：石墨、鈷酸鋰等；
•    其他：可用來(lái)觀察各種非金屬粉、金屬粉以及其他粉體；

2.

產(chǎn)品名稱：陶瓷磚釉面抗龜裂蒸壓釜 產(chǎn)品型號(hào)：HAD-CZ

陶瓷磚釉面抗龜裂蒸壓釜  型號(hào)：HAD-CZ

本儀器在意大利及日本抗龜裂試驗(yàn)儀優(yōu)點(diǎn)的基礎(chǔ)上，采用了的電子行監(jiān)控，壓容器及零件由不銹鋼制成。采用直接加熱，滿足符合GB/T3810.11-2006陶瓷磚試驗(yàn)方法，11分《有釉磚抗釉裂性的測(cè)定》﹑際標(biāo)準(zhǔn)ISO10545-11:1994等標(biāo)準(zhǔn)要求。
主要參數(shù)：    

1 試驗(yàn)尺寸：350×350
2 試驗(yàn)數(shù)量：10-60件/次
3 試驗(yàn)壓力：0.5Mpa±0.02Mpa
1.0Mpa±0.02MPa
4 試驗(yàn)時(shí)間：數(shù)字顯示并按照要求意設(shè)定
5 壓時(shí)有多及安保證及聲光報(bào)警